Aféierung an Uwendung vu künstlechen Graphit

Synthetisches Graphit ass e polykristallint Material, ähnlech wéi Kristallographie. Et gëtt vill Zorte vu künstleche Graphit a verschidde Produktiounsprozesser.
Am breede Sënn kënnen all Graphitmaterialien, déi no der Karboniséierung vun organescher Matière a Graphitiséierung bei héijer Temperatur kritt ginn, kollektiv als künstlecht Graphit bezeechent ginn, wéi zum Beispill Kuelestoff (Graphit) Faser, pyrolytesche Kuelestoff (Graphit), Schaumgraphit, etc.

Am enge Sënn bezitt sech künstleche Graphit normalerweis op déi fest Materialien, wéi Graphitelektroden, isostatesche Graphit, déi duerch Batching, Mëschen, Formen, Karboniséierung (an der Industrie als Réischteren bekannt) a Graphitiséierung hiergestallt ginn, mat engem niddregen Unreinheetsgehalt vu Kuelestoffrohmaterialien (Pëtrolskoks, Asphaltkoks, asw.) als Aggregat, Kuelepech als Bindemittel.
Et gëtt vill Forme vu kënschtleche Graphit, dorënner Pulver, Faser a Block, während déi enk Bedeitung vu kënschtleche Graphit normalerweis e Block ass, deen an eng bestëmmt Form veraarbecht muss ginn, wann e benotzt gëtt. Et kann als eng Zort Méiphasmaterial ugesi ginn, dorënner d'Graphitphas, déi duerch Kuelestoffpartikelen wéi Petroleumkoks oder Asphaltkoks transforméiert gëtt, d'Graphitphas, déi duerch Kuelpechbindemëttel transforméiert gëtt, dat ëm d'Partikelen beschichtet ass, d'Partikelakkumulatioun oder d'Poren, déi vum Kuelpechbindemëttel no der Hëtztbehandlung geformt ginn, asw. Am Allgemengen, wat méi héich d'Hëtzbehandlungstemperatur ass, wat méi héich de Graphitiséierungsgrad ass. Bei der industrieller Produktioun vu kënschtleche Graphit ass de Graphitiséierungsgrad normalerweis manner wéi 90%.

Am Verglach mat natierleche Graphit huet künstleche Graphit eng schwaach Wärmetransfert an elektresch Leetfäegkeet, Schmierkraaft a Plastizitéit, awer künstleche Graphit huet och eng besser Verschleißbeständegkeet, Korrosiounsbeständegkeet a geréng Permeabilitéit wéi natierleche Graphit.

D'Rohmaterialien fir d'Produktioun vun kënschtleche Graphit enthalen haaptsächlech Petroleumkoks, Nadelkoks, Asphaltkoks, Kuelepech, Kuelestoffmikrokugelen, etc. Seng Downstream-Produkter enthalen haaptsächlech Graphitelektroden, virgebakene Anoden, isostatesche Graphit, héichreine Graphit, Nukleargrafit, Wärmetauscher a sou weider.

D'Produktapplikatioun vu künstlechen Graphit spigelt sech haaptsächlech an de folgende Aspekter erëm:

1. Grafitelektrode: Mat Pëtrolskoks an Nadelkoks als Rohmaterial a Kuelepech als Bindemittel gëtt d'Graphitelektrode duerch Kalzinatioun, Batching, Mëschen, Pressen, Réischteren, Graptitiséierung a Bearbechtung hiergestallt. Si gëtt wäit verbreet an Elektrouewenstol, industriellem Silizium, gielem Phosphor an aner Ausrüstung benotzt, andeems elektresch Energie a Form vun engem Bou fräigesat gëtt, fir d'Ladung ze erhëtzen an ze schmëlzen.

2. Virgebaken Anod: aus Petroleumkoks als Rohmaterial a Kuelepech als Bindemittel duerch Kalzinatioun, Batching, Mëschen, Pressen, Réischteren, Imprägnatioun, Graphitiséierung a Bearbechtung gemaach, gëtt se allgemeng als leitfäeg Anod vun elektrolyteschen Aluminiumausrüstung benotzt.

3. Lager, Dichtungsring: Transport vu korrosiven Medienausrüstung, wäit verbreet künstlech Graphit aus Kolbenréng, Dichtungsréng a Lager, funktionéiert ouni Schmierueleg bäizefügen.

4. Wärmetauscher, Filterklass: künstleche Graphit huet d'Charakteristike vu Korrosiounsbeständegkeet, gudder Wärmeleitfäegkeet a gerénger Permeabilitéit. Et gëtt wäit verbreet an der chemescher Industrie benotzt fir Wärmetauscher, Reaktiounsbehälter, Absorber, Filter an aner Ausrüstung ze maachen.

5. Spezialgrafit: mat héichwäertege Pëtrolskoks als Rohmaterial, Kuelepech oder syntheteschen Harz als Bindemittel, duerch Rohmaterialvirbereedung, Batching, Knieden, Pressen, Zerbriechen, Mëschen, Knieden, Formen, Multiple Réischteren, Multiple Penetratioun, Reinigung a Graphitiséierung, Bearbechtung a Fabrikatioun, allgemeng abegraff isostatesch Grafit, Nukleargrafit, héichreine Grafit, benotzt an der Loft- a Raumfaart, Elektronik, Nuklearindustrie.


Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 23. November 2022